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将刻蚀气体通入刻蚀设备的腔室内,对SiC衬底进行刻蚀;其中,所述刻蚀气体包括含氟气体、O 2 和HBr(溴化氢) 气体。本发明所提供的碳化硅衬底的刻蚀方法中,刻蚀气体 2

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